在酸性氯化铜蚀刻过程出现抗蚀剂破坏的原因可能有（）。

时间：2019-05-08 04:38:40 关键词：氯化铜,能有,酸性

在酸性氯化铜蚀刻过程出现抗蚀剂破坏的原因可能有（）。

A.溶液温度过高

B.溶液被污染

C.显影有余胶

D.传递速度过快

答案解析

A, B

举一反三
通常使用添加了过硫酸盐或过氧化氢的硫酸作为蚀刻液（）。
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碱性氯化铜的蚀刻液密度太低 会加大侧蚀量 这是因为（）。
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浸泡式蚀刻通常使用添加了过硫酸盐或过氧化氢的硫酸作为蚀刻液。
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印制电路板中的图形蚀刻是指用化学溶液去掉铜箔而得到所需的电路图形的过程。
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在酸性氯化铜蚀刻过程出现抗蚀剂破坏的原因可能有（）。
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